真空爐在模具生產(chǎn)中發(fā)揮著不可替代的作用，主要用于陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊，以及陶瓷-金屬封接等。今天高溫釬焊爐廠家長(zhǎng)興三合科技小編就來(lái)給大家具體介紹一下吧！
真空爐的工藝： 真空爐可用於退火、脫氣、固溶熱處理、淬火、回火和沉淀硬化等工藝。在通入適當(dāng)介質(zhì)后，也可用於化學(xué)熱處理。
真空爐真空中的退火、脫氣、固溶處理主要用於純凈程度或表面質(zhì)量要求高的工件，如難熔金屬的軟化和去應(yīng)力、不銹鋼和鎳基合金的固溶處理、鈦和鈦合金的脫氣處理、軟磁合金改善導(dǎo)磁率和矯頑力的退火，以及要求光亮的碳鋼、低合金鋼和銅等的光亮退火。
真空中的淬火有氣淬和液淬兩種。
氣淬即將工件在真空加熱后向冷卻室中充以高純度中性氣體(如氮)進(jìn)行冷卻。適用於氣淬的有高速鋼和高碳高鉻鋼等馬氏體臨界冷卻速度較低的材料。
液淬是將工件在加熱室中加熱后，移至冷卻室中充入高純氮?dú)獠⒘⒓此腿氪慊鹩筒郏焖倮鋮s。如果需要高的表面質(zhì)量，工件真空淬火和固溶熱處理后的回火和沉淀硬化仍應(yīng)在真空爐中進(jìn)行。
真空滲碳是將工件裝入真空爐中，抽真空并加熱，使?fàn)t內(nèi)凈化，達(dá)到滲碳溫度后通入碳?xì)浠衔?如丙烷)進(jìn)行滲碳，經(jīng)過(guò)一定時(shí)間后切斷滲碳劑，再抽真空進(jìn)行擴(kuò)散。這種方法可實(shí)現(xiàn)高溫滲碳(1040℃)，縮短滲碳時(shí)間。滲層中不出現(xiàn)內(nèi)氧化，也不存在滲碳層表面的含碳量低於次層的問(wèn)題，并可通過(guò)脈衝方式真空滲碳，使盲孔和小孔獲得均勻滲碳層。
真空爐的真空熱處理即真空技術(shù)與熱處理兩個(gè)專業(yè)相結(jié)合的綜合技術(shù)，是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的。我國(guó)將真空劃分為低、中、高和超高真空。
真空爐工藝及種類
真空爐的種類：
一、真空電阻爐
1、外熱式真空爐：（在普通井式爐爐膛中放一個(gè)真空爐罐） A、主要進(jìn)行退火操作，可通過(guò)拆去真空管道吊出爐罐進(jìn)行冷卻，可準(zhǔn)備幾個(gè)真空爐罐，進(jìn)行連續(xù)操作。
2、內(nèi)熱式真空爐：（爐罐真空，爐罐和爐體之間也是真空） A、特點(diǎn)：可使?fàn)t罐內(nèi)外壓力一致，減少爐罐壁厚 B、內(nèi)熱式：電阻絲懸掛在圓柱形爐膛內(nèi)側(cè) 注：內(nèi)熱式與外熱式的區(qū)別：內(nèi)熱式中電阻絲、爐襯同處于真空中。而外熱式中，電阻絲、爐襯不在真空中。 C、種類：碳管爐、雙室真空爐、高壓氣淬爐 a、碳管爐：隔熱屏為內(nèi)層鏌片（0.3mm），處層不銹鋼。 鏌片遇高熱后，表面變得光亮，將輻射能反射回去，故能保溫。且本身含氣量小，故適合高真空。 b、雙室真空爐：此爐為臥式，分前、后室，均為真空狀態(tài)，中間用真空閘門(mén)分開(kāi)，后室中有一密封的爐罐，工件在后室中加熱，好了后，打開(kāi)真空閘門(mén)，拉到前室，碳?xì)种信艹龅臍怏w也趕到前室，再關(guān)閉真空閘門(mén)，打開(kāi)爐門(mén)出料。進(jìn)料后，先把前室抽真空，再打開(kāi)真空閘門(mén)將料推進(jìn)后室加熱。同樣也可通保護(hù)氣體，加上油槽后，可作淬火處理。 c、高壓氣淬爐：利用高壓氣體對(duì)工件進(jìn)行淬火，適用于高速鋼
二、真空感應(yīng)爐
半連續(xù)式真空感應(yīng)爐：坩堝可連續(xù)澆幾個(gè)模子，不必等爐冷后，再將模子取出相對(duì)周期式真空爐而言，不必對(duì)加熱室反復(fù)抽真空，可使加熱室始終處于真空中，另外不必等爐冷后，再將模子取出，提高效率。 何謂半連續(xù)：依靠小車(chē)移動(dòng)進(jìn)出，完成工序。小車(chē)在澆鑄后開(kāi)出，換一個(gè)模子再進(jìn)入加熱室進(jìn)行澆鑄。
當(dāng)前位置：
